物理学専攻 松下ステファン悠さん、新村紘和さんが第32回表面科学学術講演会 講演奨励賞（スチューデント部門）を受賞しました。贈呈式は、平成25年5月25日に開催される本学会通常総会の場で行います。

■受賞者：
・物理学専攻博士課程後期１年　松下ステファン悠さん
・物理学専攻博士課程前期２年　新村紘和
（表面物理研究室）

■賞名：
第32回表面科学学術講演会 講演奨励賞（スチューデント部門）
■受賞タイトル
松下さん
「映進対称性を反映したH:Si(110)-(1×1)表面の表面フォノン分散」
新村さん
「水素終端Si(111)及びSi(110)表面の初期酸化過程」

■受賞日：
2012年2月8日

■備考：
表面科学会webサイト
「第32回表面科学学術講演会 講演奨励賞受賞者決定のお知らせ」